Was ist der Unterschied zwischen n- und p-Dotierung?

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Soll die elektrische Leitfähigkeit von Halbleitern geändert werden, dann wird zwischen p- und n-Dotierung unterschieden. Bei der p-Dotierung werden Fremdatome implantiert, die als Elektronen-Akzeptoren, dienen. Bei n-Dotierung werden hingegen Elektronen-Donatoren implantiert.Siehe WIKI

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Danke :-) hilfreiche Antwort ^^

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So genau weiß ich das auch nicht mehr. Auf jeden Fall gibt es in einem perfekten Siliciumgitter ja keine Elektronen, die so lose rumschwirren, weil jedes der vier Valenzelektronen mit einem Nachbaratom verbunden ist. Deshalb werden in das Silicium Spuren von anderen Elementen eingebracht. Und je nachdem ob man jetzt Elemente mit 5 oder 3 Elektronen auf der äußersten Schale einbringt, nennt man es n- oder p-Dotierung. Weiß nur nicht mehr, was was ist. Wenn man jetzt ein Element mit 5 Valenzelektronen einbringt, dann muss das fünfte Elektron ja quasi ohne Bindung bleiben. Genau so ists eigentlich mit der anderen Methode, wenn das Atom nur 3 Valenzelektronen hat, fehlt praktisch bei einer Bindung ein Elektron. Dadurch gibt es dann Positive (eine "Elektronenlücke") oder negative (ein übriges Elektron) Ladungen im Gitter und die Leitfähigkeit nimmt extrem zu.

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Ist ja cool, das hat meine Lehrerin auch alles gesagt ^^ vielen Dank :-)

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@Waltrude

Wenn deine Lehrerin das auch alles gesagt haben soll, dann kannst du dich ja wohl noch daran erinnern. Wieso verstehst du es jetzt also besser als in der Schule? :-) Gruß, Marco.

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