wie werden 100 bis 200 nm dicke schichten hergestellt?

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1 Antwort

Fast alle dieser Schichten werden in einer Vakuumkammer aufgedampft oder gesputtert. Das ist enorm viel, das alles hier zu erklären, da muss Onkel Google helfen. Stichworte wie Sputtering, CVD oder auch Galvanik. Letzteres ist elektrochemische Abscheidung aus einer Lösung.

Diese Schichten sind zu Beginn natürlich durchgängig und homogen, können aber mit Lithografie (Belichtungsverfahren), Masken und fotoempfindlichen Lacken im Nanobereich strukturiert werden. So werden auch (fast) alle Arten von Mikrochips hergestellt.

Einen guten Link habe ich gerade nicht parat, aber vielleicht findest du selber ja was.

Vielen Dank! Sehr hilfreich!

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